پوشش دهی فوق سخت با دستگاه های ایرانی امکان پذیر شد
یکی از شرکت های مهندسی دستگاه های لایه نشانی پوشش های فوق سخت را برای پوشش دهی لایه های بسیار سخت، لایه های فوق سخت و پوشش های نانو کامپوزیت تولید و عرضه نموده است.
به گزارش لباس نو به نقل از ایسنا، یکی از شرکت های مهندسی دستگاه لایه نشانی پوشش های فوق سخت با فناوری هیبریدی را برای پوشش دهی لایه های بسیار سخت، لایه های فوق سخت و پوشش های نانو کامپوزیت شامل TiN، TiAlN، CrN، ZrN، AlCrTiN و TiAlSiN ارایه داده است. این پوشش ها بر روی ابزارآلات بمنظور افزایش عملکرد و عمر کاری آنها قابل استفاده می باشد.
این شرکت بعنوان یکی ازشرکت های صنعتی توسعه دهنده پوشش های نانولایه و نانوکامپوزیتی است و تجهیزات تولید شده در این شرکت مبتنی بر روش رسوب دهی بخار پلاسمایی است. لایه نشانی پوشش های فوق سخت با فناوری هیبریدی یکی از خدمات این شرکت بشمار می رود و هم اکنون بعنوان یکی از بزرگ ترین مراکز خدمات پوشش های فوق سخت به روش رسوب دهی بخار پلاسمایی در ایران فعالیت دارد.
لایه نشانی فیزیکی بخار (PVD) نام یک خانواده بزرگی از روش های پوشش دهی مبتنی بر تکنولوژی خلا است که امروزه به شکل گسترده ای برای تولید لایه های نازک و پوشش ها استفاده می شود. در تمام روش های PVD، ماده از حالت فاز جامد (که بطور معمول تارگت نامیده می شود) به حالت فاز بخار می رود و سپس متراکم شده و به شکل جامد بر روی زیرلایه مورد نظر رسوب می کند.
بطور معمول فرآیندهای PVD را در دو گروه اسپاترینگ و تبخیری (حرارتی) تقسیم می کنند. در روش اسپاترینگ، بیشتر تمرکز بر روی بمباران یونی تارگت است که اساسا روشی غیر حرارتی قلمداد می شود، در صورتیکه در دیگر روش های تبخیری، با اعمال یک چشمه حرارتی چه بصورت موضعی و چه بصورت تمام اهتمام می شود به تارگت آن قدر گرما وارد شود تا قسمتی از آن بصورت بخار وارد فاز گازی شود.
در لایه نشانی قوس کاتدی (که به آن Arc-PVD نیز گفته می شود) یک قوس الکتریکی وظیفه گرمایش موضعی تارگت را بر عهده دارد. در پروسه لایه نشانی، عناصر، آلیاژها یا ترکیبات ابتدا تبخیر شده و سپس در محیط خلا بر روی زیرلایه رسوب می کنند. این پروسه در فشاری کمتر از ۰/۱ پاسکال (۱ میلی تور) و بطور معمول در فشار خلا بین ۱۰ تا ۰/۱ میلی پاسکال انجام می پذیرد. دمای زیرلایه می تواند از دمای اتاق تا ۵۰۰ درجه سانتیگراد تغییر کند.
ماده تبخیر شده سپس بر روی زیرلایه رسوب کرده و تشکیل یک لایه نازک را می دهد. این روش می تواند برای لایه نشانی فلزات، سرامیک ها و فیلم های کامپوزیتی استفاده گردد.
استفاده صنعتی فناوری لایه نشانی قوس کاتدی از دهه های ۶۰ تا ۷۰ میلادی آغاز شد. این پروسه با برخورد قوس های جریان بالا و ولتاژ پایین بر روی سطح تارگت آغاز می شود که منجر به تشکیل نقاط بسیار داغ موضعی می شود. دما در این نقاط به بالای ۱۵۰۰۰ درجه سانتیگراد می رسد، در نتیجه یک توده بخاری به سرعت از این مواضع داغ موضعی شکل می گیرد. لازم به ذکر است این مواضع داغ موضعی برای زمان های کوتاهی فعال می باشند. با تغییر محل برخورد قوس الکتریکی، این مکان قبلی غیر فعال شده و مکان جدیدی بر روی سطح تارگت هدف برخورد قوس قرار می گیرد. بدین سبب اینگونه بنظر می رسد که مکان های موضعی دما بالا و قوس درحال حرکت بر روی سطح تارگت هستند.
به نقل از ستاد نانو، امتیاز کلیه فرآیندهای تبخیر در خلأ آنست که لایه های مختلفی از مواد مختلف می توانند با سرعت و خلوص بالا ایجاد شوند. از آنجائیکه این فرآیندها اصطلاحا از نوع لایه نشانی مسیر خط دید (line-of-sight) هستند، ایجاد پوشش بر روی سطوح زبر و غیر صاف ممکنست مشکل ساز باشد و منجر غیریکنواختی در ضخامت پوشش نهایی شود.
لایه نشانی قوس کاتدی به شکل گسترده ای برای ساخت لایه های خیلی مشکل برای حفاظت از ابزارآلات برش و افزایش عمر آنها استفاده می شود.
این مطلب را می پسندید؟
(1)
(0)
تازه ترین مطالب مرتبط
نظرات بینندگان در مورد این مطلب